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J-GLOBAL ID：201602018603437547   整理番号：71A0358736

低温照射したZrにおけるフレンケル対の生成と相互消滅

Production and mutual annihilation of frenkel pairs in low temperature irradiated zirconium.

著者 (5件)： BIGET M ,  MAURY F ,  VAJDA P ,  LACASSOX A ,  LUCASSON P
資料名： Radiat Eff  (Radiation Effects)
巻： 7  号： 3/4  ページ： 223-229  発行年： 1971年 
JST資料番号： A0224A  ISSN： 0033-7579  CODEN： RAEFBL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 12.5μ原のZr薄膜を液体He温度で0.50~1.70MeVのエネルギー範囲の原子線で照射した。原子変位確率関数Pd(T)を仮定し,多重変位の寄与を求めることによって理論的な曲線が欠陥生成率の測定値に適合した。最も良い適合はPdの値がTく21eV,21≦Tく30eV,30≦T〈50eV,50≦T<110eVに対してそれぞれ0,1.6,0.55,0.61,またフレンケル対の抵抗が4x10^-3Ω・emの時であった。等時焼きなましおよび等温焼なましを回復段階I(150.Kまで)で行ない先にNeelyの得た結果との比較を行なっている

シソーラス用語： ジルコニウム ,  電子ビーム ,  放射線効果
準シソーラス用語： 焼きなまし

タイトルに関連する用語 (2件)： 低温 ,  Zr