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J-GLOBAL ID：201602018750911475   整理番号：71A0045781

スパッター中の金属ターゲット上の円すい形成

Cone formation on metal targets during sputtering.

著者 (2件)： WEHNER G K ,  HAJICEK D J
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 42  号： 3  ページ： 1145-1149  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Mo原子がスバッター時に表面に到達する条件下で,Cu表面をイオン衝撃でスパッターすると表面はミクロ円すいで覆われてくる。その密度は到達Moの密度とともに増大する。この被覆のためスバッター効率が低下し.スパッターされた物質の強い斜め放出を起す。円すいのトップはMo核でできているようで,断えず表面拡散で補充され.下部のCuスパッターをさまたげている;写図8参9

シソーラス用語： 銅 ,  表面

タイトルに関連する用語 (3件)： スパッター ,  金属ターゲット ,  円すい