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J-GLOBAL ID:201602018805392375   整理番号:69A0083651

シリコンカーノくイドを複合したニッケルめっき層

Nickelschichten mit Zusatz von Siliziumkarbid.
著者 (1件):
資料名:
巻: 23  号:ページ: 35-36  発行年: 1969年 
JST資料番号: D0055A  ISSN: 0026-0797  CODEN: MOFEA   資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: ドイツ (DEU) 
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ワットニッケル浴に粒度280のシリコンカーパイド50g/1を加えかく拝しつつアルミニウム試験片上に複合めっきを行ない,基板を溶解し2mm厚さのめっき層のみをとり出した。同様に複合しない普通のめっき層も作り,めっき速度を測定すると2μm/minで普通めっきの少なくとも2倍となる。かたさはロックウエル値で70~91であった。耐摩耗性はAP61型試験機で計り普通のめっきょり70%大きい。この皮膜の応用につき考察し更に他の複合メッキ開発の可能性をのべた;写図1表2
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