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J-GLOBAL ID：201602018944054450   整理番号：71A0142330

光に敏感な保護基

Photosensitive protecting groups.

著者 (3件)： PATCHORNIH A ,  AMIT B ,  WOODWARD R B
資料名： J Am Chem Soc  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 92  号： 21  ページ： 6333-6335  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アミノ基を光に敏感な保護基である6-ニトロベラトリルオキシカルポニルまたは2-ニトロベンジルオキシカルポニルで保護したアミノ酸を合成し,特徴を示した。これらの保護基は3200Åより長波長の光を照射することにより脱離されるがその条件では最も光に敏感なアミノ酸であるトリプトファンでも反応がおこらなかった;表3参4

シソーラス用語： アミノ基 ,  ベンズヒドロール ,  保護基
準シソーラス用語： H₂保護 ,  NH₂保護 ,  アミノ基(保護基) ,  ジニトロ ,  ジニトロベンズヒドリルオキシカルボニル基 ,  ジニトロベンズヒドリルオキシカルボニル基(NH₂保護) ,  ニトロベラトリルオキシカルボニル基 ,  ニトロベラトリルオキシカルボニル基(NH₂保護) ,  ニトロベンジルオキシカルボニル基 ,  ニトロベンジルオキシカルボニル基(H₂保護) ,  ビチオフェンカルボン酸 ,  ビチオフェンカルボン酸/置換 ,  ベンズヒドロール/ジニトロ ,  置換 ,  保護基(アミノ基)

タイトルに関連する用語 (1件)： 保護基