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J-GLOBAL ID：201602019150160839   整理番号：71A0156963

ポリシロキサンの熱分析 II シリコン原子上およびシロキサン主鎖中に種々の置換基を有するポリシロキサンの真空熱分解

Thermal analysis of polysiloxanes, II. Thermal vacuum degradation of polysiloxanes with different substituents on silicon and in the main siloxane chain.

著者 (2件)： THOMAS T H ,  KENDRICK T C
資料名： J Polym Sci Part A-2  (Journal of Polymer Science. Part A-2. Polymer Physics)
巻： 8  号： 10  ページ： 1823-1830  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0346B  CODEN： JPLPA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリシロキサン鎖の熱安定性を支配する構造因子を解明するため,7種類の標記化合物の熱分解挙動を熱重量法および生成物の分析により調べた。熱分解による解重合反応の活性化エネルギーとひん度因子の値を置換基の電子的性質および置換基間の近距離の立体的相互作用と関連づけ,解重合反応をシリコン原子への酸素原子の求核攻撃による4中心環状遷移状態を経る機構で説明した;写図1表4参9

シソーラス用語： ポリシロキサン ,  熱分解

タイトルに関連する用語 (7件)： ポリシロキサン ,  熱分析 ,  シリコン原子 ,  シロキサン ,  主鎖 ,  置換基 ,  真空熱分解