文献

J-GLOBAL ID：201602019400521166   整理番号：72A0090775

P-Rめっきによる電着の限界電流

The limiting rate of deposition by P-R plating.

著者 (1件)： CHEH H Y
資料名： J Electrochem Soc  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 118  号： 7  ページ： 1132-1134  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 0013-4651  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： P-Rめっき(周期的に電流の極性を反義させるめっき法)において,極性が陰極になった時の瞬間的電流密度が,普通の直流めっきの場合に較べて大きいことはよく知られているが,電着の限界電流密度の計算に対する満足すべき理論はまだない。この報告では,上記計算にパルス電流によるめっきについての拡散モデルを適用した;写図6参4

シソーラス用語： 拡散 ,  金めっき ,  電気めっき ,  電着
準シソーラス用語： P-Rめっき ,  金めっき(P-Rめっき/限界電流) ,  限界電流 ,  限界電流(P-Rめっき) ,  電気めっき(金めっき;P-Rめっき/限界電流)

タイトルに関連する用語 (3件)： めっき ,  電着 ,  限界電流