抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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これはシリコンP-N接合形検出器とリシウムドリフト形検出器,それにトランジスタ電荷増幅器に関する研究と開発の報告である。P-N接合形検出器は接合面をシリコン酸化膜の下に保護することにより,キャップなしで定定な特性を有し,逆電流も少さい。この形を特にプレーナ形と称している。有効面積は7mm
2および20mm
2の二種あり,5MeVのα線分解能は定格で20~3kevとなっている。他に,湿度・ふん囲気・経時変化・放射線損傷などの試験を行った。リシウムドリフト形は,有効面積が4×5mm
2で,有効厚さは定格で2mmまである。また,半導体検出器用に全トランジスタ化増幅器を完成,雑音は10~20keVとなった;写3 図26 表3 参1