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J-GLOBAL ID：201602019610778313   整理番号：71A0169712

紫外線照射によりポリエチレン中に生成したフリーラジカルのESRによる研究

ESR study of free radicals produced in polyethylene irradiated by ultraviolet light

著者 (4件)： HAMA Y ,  HOSONO K ,  FURUI Y ,  SHINOHARA K
資料名： J Polym Sci Part A-1  (Journal of Polymer Science. Part A-1. Polymer Chemistry)
巻： 9  号： 5  ページ： 1411-1419  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0337C  ISSN： 0022-3832  CODEN： JPLCA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリエチレンの紫外線照射で生成するラジカルの構造を電子スピン共鳴スペクトルによi)調べた。生成したラジカルは〓であった。酸化したポリエチレン試料は非酸化試料に比ベラジカルの生成率が高く,紫外線は主にポリエチレン中のカ1レポニル基に吸収されて,カルボニル炭素と隣接メチレン炭素間の結合が切断してラジカルが生成する。ラジカ1’vjは熱によって〓に異性化し.IIIは光によって1に変わる。超高圧ランプを用いた時よりも低圧水銀ランプを用いた時の方がIIの型のラジカ/レが生成しゃすい;写図6参12

シソーラス用語： ポリエチレン ,  光照射 ,  電子スピン共鳴

タイトルに関連する用語 (5件)： 紫外線照射 ,  ポリエチレン ,  フリーラジカル ,  ESR ,  研究