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J-GLOBAL ID：201602019712366028   整理番号：65A0120811

広い接触表面を得るための金属けい素の電気化学的表面処理

Electrochemical roughening of silicon surfaces for improved alloying of largearea contacts.

著者 (4件)： SCHMIDT P F ,  STICKLER R ,  ROSE G D ,  KNOPP A N
資料名： Electrochem Technol  (Electrochemical Technology)
巻： 3  号： 12  ページ： 49-55  発行年： 1965年 
JST資料番号： C0765A  CODEN： ECTCA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

抄録/ポイント： 金属けい素表面にSiO2被膜を生長させた後に,陽極的に電気化学腐食を施せぱ,顕微鏡的スケールの微小食孔が得られることがわかった。SiO2被膜生成工程として希アルカリ中で電解酸化により,結晶性を持った薄層とすることが出来る。電解腐食はN恥NO3-HF-テトラヒドロフルフリルアルコール液中で,40°以下で20mA/差で350Vに到達するまで行なう。このようにして得た孔食表面Ga,Alなどを接着しその顕微鏡観察を行なったところ,腐食面に接して良好な固溶体形成が見られた;写20参6

タイトルに関連する用語 (4件)： 接触表面 ,  けい素 ,  電気化学 ,  表面処理