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J-GLOBAL ID：201602019994390600   整理番号：71A0008262

超高真空中でへきかいした試料を10eVまで反射率と透過率を極く低温(10°K)まで測定する装置

Dispositif pour mesures de reflexion ou de transmission jusqu’ a 10 eV a basse temperature (10°K) sur echantillons clives en ultravide.

著者 (4件)： FETROFF Y ,  PINCHAUX R ,  DAGNEAUX D ,  BALKANSKI M
資料名： Rev Phys Appl  (Revue de Physique Appliquee)
巻： 5  号： 5  ページ： 727-729  発行年： 1970年 
JST資料番号： B0655A  ISSN： 0035-1687  CODEN： RPHAA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： フランス (FRA)  言語： フランス語 (FR)

抄録/ポイント： 偏光した光を用いヘリウム温度で反射率と透過率を測る装置について述べる。モノクロメータからの光はL,Fの窓を用いて測定部に入る。サンプルの汚れを防せぐためイオンポンプを用い10曹7Torrより良い真空にし.また必要な場合には真空中で試料をへきかいする。ヘリウムクラィオスタットの説明およびZ,T。の測定例などを示す;写図5参4

シソーラス用語： 透過率 ,  反射率
準シソーラス用語： ZnTe ,  クライオススタット ,  反射計

タイトルに関連する用語 (6件)： 高真空 ,  へきかい ,  試料 ,  反射率 ,  透過率 ,  低温