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J-GLOBAL ID：201602020181650913   整理番号：72A0025746

同時スパッタ膜の蒸薪プロフィルの計算と組成の解析

Calculation of deposition profiles and compositional analysis of cosputtered films.

著者 (3件)： HANAK J J ,  LEHMANN H W ,  WEHNER R K
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 43  号： 4  ページ： 1666-1673  発行年： 1972年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有限の大きさのスパッタリング・ターゲットの蒸着プロフィルについての表示を.クヌードセンの法則から求めた。このようなプロフィルを計算することの可能性は,異る材料の物理的に分離されたターゲットからの同時スパッタした多層成分膜の成分決定について最近報告された方法を単純にする。スパッタ膜の成分の計算に必要なデータは,スパッタリングの配置の寸法,ターゲットの相対位置,および農厚の測定値である。Cu-Niの同時スパッタについての実験データを示した;写図9表3参14

準シソーラス用語： Knudsen則 ,  スパッタ膜 ,  組成 ,  同時スパッタ膜

タイトルに関連する用語 (5件)： スパッタ膜 ,  プロフィル ,  計算 ,  組成 ,  解析