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J-GLOBAL ID：201602020424934605 整理番号：71A0373419
アゾキシベンゼンの反応性 I 2,2′-ジメチルアゾキシベンゼンのWallaeh転位
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著者 (2件)：
山本二郎
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佐藤憲章
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資料名：
鳥取大学工学部研究報告 (Reports of the Faculty of Engineering, Tottori University)
鳥取大学工学部研究報告 について
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巻：
1
号：
1
ページ：
45-49
発行年：
1970年
JST資料番号：
S0655A
ISSN：
0385-8596
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
日本 (JPN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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2,2′-ジメチルアゾキシベンゼン(DMAB)の硫酸,クロルスルホン酸,その他の弱酸触媒によるWallach転位を検討し,次の結果を得た.DMABの転位生成物4-ナキシ-2,2′-ジメチルアゾベンゼンを80%硫酸中,反応温度80°C,30分の条件下,64%の収率で得た.DMABのクロルスルホン酸による転位では普通のWallach転位の場合とは異なり,o-異性体の収率がp-異性体の収率よりも高かった.弱酸を触媒としたWallach転位について検討した結果,無水酢酸-トリクロル酢酸系で転位が進行し,38.8%の収率でか異性体の生成を確認:参10
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