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J-GLOBAL ID：201602020484290405   整理番号：71A0261261

磁性薄膜メモリの研究

Vekony magneses retegekkel mukodo memoriak kutatasa
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著者 (1件)：
KATONA J

KATONA J について


資料名：
Hiradastechnika  (Magyar Hiradastechnika)

Hiradastechnika について


巻： 21  号： 11  ページ： 339-342  発行年： 1970年 
JST資料番号： E0192A  ISSN： 0018-2028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ハンガリー (HUN)  言語： ハンガリー語 (HU)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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蒸着によって平板状メモリとワイヤメモリを作る研究をした結果の.報告。研究開発の経過と試作に用いた装置の説明.試作したメモリの試験法と結果を示す。使用した材質は80/20NiFe.60/40NiFe.81/19NiFeなどで,飽和磁束密度7500~8000ガウス,角形比0.9~0.95.保磁力4~4.5エルステッド程度であった;写図11表3参3
準シソーラス用語：
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ワイヤメモリ

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磁性薄膜記憶素子

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磁性薄膜メモリ

磁性薄膜メモリ について

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研究

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