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J-GLOBAL ID：201602020650551247   整理番号：58A0020409

高温における酸素,二酸化炭素,窒素または0.2%窒素を含むアルゴン中のけい素の酸化または窒化反応速度

Kinetics of the Oxidation and Nitridation of Silicon at High Temperatures.

著者 (2件)： EVANS J W ,  CHATTERJI S K
資料名： J Phys Chem  (Journal of Physical Chemistry)
巻： 62  号： 9  ページ： 1064-1067  発行年： 1958年 
JST資料番号： C0334A  ISSN： 0022-3654  CODEN： JPCHAX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

タイトルに関連する用語 (8件)： 酸素 ,  二酸化炭素 ,  窒素 ,  アルゴン ,  けい素 ,  酸化 ,  窒化 ,  反応速度