{{ $t("message.ADVERTISEMENT") }}
{{ $t("message.AD_EXPIRE_DATE") }}2022年05月
{{ $t("message.ADVERTISEMENT") }}
{{ $t("message.AD_EXPIRE_DATE") }}2022年05月
文献
J-GLOBAL ID:201602020650551247   整理番号:58A0020409

高温における酸素,二酸化炭素,窒素または0.2%窒素を含むアルゴン中のけい素の酸化または窒化反応速度

Kinetics of the Oxidation and Nitridation of Silicon at High Temperatures.
著者 (2件):
資料名:
巻: 62  号:ページ: 1064-1067  発行年: 1958年 
JST資料番号: C0334A  ISSN: 0022-3654  CODEN: JPCHAX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: アメリカ合衆国 (USA) 

前のページに戻る