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J-GLOBAL ID：201602020972028353   整理番号：62A0067840

低温化学吸着 III 電場放射顕微鏡による研究

Low-temperature chemisorption. III. Studies in the fitld emission microscope.

著者 (2件)： EHRLICH G ,  HUDDA F G
資料名： J Chem Phys  (Journal of Chemical Physics)
巻： 35  号： 4  ページ： 1421-1439  発行年： 1961年 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

抄録/ポイント： 表面構造に対する吸着の依存性を研究,Wの全ての面でN吸着原を観察できる.III極付近での拡散速度が最も速く移動の障壁は20kcal/mole(100極付近で35kcal/mole),T>400°Kで不定なNのα伏態に対し著しい構造効果がある(111極付近に分布)79°Kで安定なγ伏態(分子伏)はほぼ一様に分布する

タイトルに関連する用語 (6件)： 低温 ,  化学吸着 ,  電場 ,  放射 ,  顕微鏡 ,  研究