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J-GLOBAL ID：201602021094796894   整理番号：72A0045486

多層薄膜におけるプロッホ磁壁の運動

On the Bloch wall motion in multilayer films.

著者 (1件)： ANDRA W
資料名： Czech J Phys Sect B  (Czechoslovak Journal of Physics. Section B)
巻： 21  号： 4/5  ページ： 522-524  発行年： 1971年 
JST資料番号： B0329A  ISSN： 0011-4626  CODEN： CZYPAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧チェコスロバキア (CSK)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄膜表面での交差線に沿ってピン止めされ,外部磁場により曲げられたプロッホ磁壁を考察。硬軟2種の薄膜の系ではピン止めは異った薄膜の磁壁間で行われ.磁壁が非可逆運動を始める臨界磁場の計算結果は.硬軟薄膜の保磁力の磁束で重み付けした平均値となることを示した;写図2参3

シソーラス用語： 保磁力
準シソーラス用語： Bioch磁壁 ,  多層薄膜

タイトルに関連する用語 (3件)： 多層薄膜 ,  磁壁 ,  運動