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J-GLOBAL ID：201602021133351951   整理番号：72A0121749

テトラアルコキシシランの電子衝撃誘起分解

Der elektronenstossinduzierte Abbau von Tetraalkoxysilanen.

著者 (1件)： DUBE G
資料名： J Prakt Chem  (Journal fuer Praktische Chemie)
巻： 313  号： 2  ページ： 357-370  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0338A  ISSN： 0021-8383  CODEN： JPCEA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： ドイツ語 (DE)

抄録/ポイント： テトラアルコキシシランSi〔-o-(CHZ),CH3〕4(n二0~4)およびsi〔-O-(CH,)NCH(CH,),〕,(n=(1)・~2)のイオン源量質分析計中の電子衝撃による分解を研究・分解により最初にフ.ラグメンテーションにより分子イオンから(アルキルーo-),S1+および(アルキル.0-),si-OCHZイオンが生ずる。次いで水素転位およびアルデヒドーまたはオレフィン開裂が起きジアルコキシシリルーまたはジアルコキシーヒドロキシシリルーカチオンが生成。種々のテトラアルコキシシランのフラグメンテーションによるこれらの反応の特質を検討;写図4参5

シソーラス用語： けい酸エステル ,  シラン ,  質量分析 ,  電子照射 ,  反応機構
準シソーラス用語： アルカノール ,  シラン/テトラスルコキシ ,  テトラスルコキシ ,  フラグメンテーション反応 ,  電子衝撃

タイトルに関連する用語 (4件)： テトラアルコキシシラン ,  電子衝撃 ,  誘起 ,  分解