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J-GLOBAL ID：201602021138625600   整理番号：71A0371855

高分子金属錯体の合成と性質 II 銅(II)-ポリ(4-ビニルピリジン)-ピリジン錯体の生成と構造

著者 (5件)： 土田英俊 (早稲田大(理工)) ,  金子正夫 (早稲田大(理工)) ,  高橋浩 (早稲田大(理工)) ,  鴈野幸生 (早稲田大(理工)) ,  栗村芳実 (早稲田大(理工))
資料名： 工業化学雑誌
巻： 74  号： 9  ページ： 1955-1957  発行年： 1971年 
JST資料番号： F0171A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN) 

抄録/ポイント： 高分子配位子-低分子配位子-金属イオン3成分系の錯体に着目して,銅(II)-ポリ(4-ビニルピリジン)-ピリジン錯体の生成と構造を検討.種々の組成の錯体を合成した結果,生成錯体の吸収スペクトルから,ビニルピリジン0.01単位mol,ピリジン(Py)0.01mol,CuCl₂・2H₂O0.01molとして合成したとき,ビニルピリジン単位がすべて配位した目的とする錯体を得,次の構造となる〓ものと推察.ピリジン過剰の条件で合成した錯体についても検討した.さらに錯体の磁化率,配位構造についても検討を加えた:参4

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子 ,  金属錯体 ,  性質 ,  銅 ,  ピリジン ,  錯体