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J-GLOBAL ID：201602021173202223   整理番号：71A0122493

パルス放射線分解法によるシクロヘキシルラジカルの生成の反応

Изучение образования и реакций циклогексильных радикалов методом импульсного радиолиза.

著者 (2件)： МАКАРОВ В И ,  КАБАКЧК С А
資料名： Khim Vys Ehnerg  (Khimiya Vysokikh Ehnergij)
巻： 5  号： 3  ページ： 272-274  発行年： 1971年 
JST資料番号： R0270A  ISSN： 0023-1193  CODEN： KHVKAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： パルス時間2.2μBecで,-10”eVlmlをシクロヘキサンに煕射した際に生成するシクロヘキシルラジカルの生成とその消滅の速度論を講べた。300’Kでの短寿命ラジカルの吸収スペクトルには25e±5nmに最大があり,光学密度は,lO’teO,やC,H,の添加効果も検討した;写図1参13

シソーラス用語： シクロヘキサン ,  ラジカル ,  可視スペクトル ,  放射線分解 ,  放射線分解
準シソーラス用語： シクロヘキサン(パルス放射線分解) ,  シクロヘキシルラジカル ,  パルス放射線分解 ,  ラジカル(ンクロヘキサン放射線分解) ,  ンクロヘキサン放射線分解 ,  可視スペクトル(シクロヘキシルラジカル) ,  放射線分解(シクロヘキサン)

タイトルに関連する用語 (2件)： パルス放射線分解法 ,  シクロヘキシルラジカル