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J-GLOBAL ID：201602021243118624   整理番号：71A0280077

Si脱酸反応機構と冷却凝固過程におけるSiO₂介在物の生成について

著者 (2件)： 坂上六郎 ,  笹井興士
資料名： 鉄と鋼
巻： 57  号： 13  ページ： 1953-1962  発行年： 1971年 
JST資料番号： F0332A  ISSN： 0021-1575  CODEN： TEHAA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： (1)Si脱酸では,Si添加後に溶解酸素が急激に平衡値まで低下することはない。(2)生成したSiO₂粒子の凝集はほとんど起こらず,粒子の成長は,もっぱら拡散成長による。(3)粒子の成長過程すなわち脱酸の進行は,かくはん浴では界面反応によって律速される。(4)Si脱酸過程は,生成したSiO₂の分離と過飽和な溶解酸素の低下の両面から考察される;写図11参8

シソーラス用語： 凝固 ,  脱酸 ,  非金属介在物
準シソーラス用語： 製〓

引用文献 (8件)：

• 1) 坂上, 川崎, 鈴木, 佐藤: 鉄と鋼, 55 (1969), p.550
• 2) W. A. FISCHER and M. WAHLSTER: Arch. Eisenhüttenw., 28 (1957), p.601
• 3) E. T. TURKDOGAN: JISI, 204 (1966), p.914
• 4) 坂上, 笹井: 鉄と鋼
• 5) H. SCHENCK, E. STEINMETZ. and K. K. MEHTA: Arch. Eisenhüttenw., 41 (1970), p.131

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  脱酸 ,  冷却凝固 ,  過程 ,  SiO2 ,  介在物