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J-GLOBAL ID：201602021329634552   整理番号：71A0027072

気相蒸着In膜の構造とエネルギー論

Structure and energetics of vapor-deposited indium films.

著者 (1件)： MURR L E
資料名： Phys Status Solidi A  (Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 1  号： 3  ページ： 487-498  発行年： 1970年 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 0031-8965  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 5×10’6Torr圧,-1000A/s蒸着膜に対する最適下地温度は130°Cである。膜は焼なまし双晶に富み,適当な下地温度で安定化し,融点の1degまで後焼なまししても変らない。粒界傾角は下地温度で変り,82.2。(25°C)-’85.6e(130°C)となる。双晶境界と粒界との自由エネルギー相対比は130°CでO.055,粒界自由エネルギーは18Oerg/afと見積られる;写図9参13

シソーラス用語： インジウム ,  ミクロ組織 ,  結晶粒界 ,  蒸着膜 ,  双晶 ,  表面エネルギー
準シソーラス用語： 下地温度 ,  粒界

タイトルに関連する用語 (2件)： 気相蒸着 ,  エネルギー