抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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レーザ応用の可能性について,マイクロエレクトロニクス回路製造の工具に関して検討した。特に真空中における点蒸着,薄膜工作について,現在得られているレーザの特性,出力,指向性,パルス繰り返し時間などを展望し,利用できる能力の上限を明らかにし,現在実用されている現況と,将来の見通し,条件などについて述べる;図8参3