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J-GLOBAL ID：201602021421880799   整理番号：73A0048039

蒸着したNi-Fe膜の帯磁率及び構造定数に及ぼすひずみの影響

Influence of strain on susceptibility and structure constant of evaporated Ni-Fe films.

著者 (3件)： UCHIYAMA S ,  MASUDA M ,  HOFFMANN H
資料名： J Phys  (Journal de Physique et le Radium)
巻： 32  号： 2/3(SupplI)  ページ： 402-403  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0336A  ISSN： 0302-0738  CODEN： JOPQA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： フランス (FRA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： もとの容易軸に平行,または垂直にかけた一軸性ひずみを変化させる事により一軸性パーマロイ膜の横帯磁率を測定。この実験から,構造定数Sと局所ランダム異方性K,を評価。種々の値のK,をもついくつかの膜に対して,K,のひずみへの依存性をしらべた。一般に結果はDoyleとFinneganの理論指摘と一致する;写図1参5

シソーラス用語： ひずみ ,  磁化率 ,  磁性薄膜 ,  蒸着膜
準シソーラス用語： Ni-Fe合金 ,  構造定数

タイトルに関連する用語 (3件)： 蒸着 ,  帯磁率 ,  ひずみ