文献
J-GLOBAL ID:201602201270373480   整理番号:16A0380234

サブ10nmフィン幅のInGaAsフィンFETにおける量子サイズ効果

Quantum-size effects in sub 10-nm fin width InGaAs FinFETs
著者 (3件):
資料名:
巻: 2015  ページ: 807-810  発行年: 2015年 
JST資料番号: C0829B  ISSN: 0163-1918  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
InGaAsは,サブ10nm CMOS用の最も有望なnチャネル材料として出現している。精密ドライエッチングディジタルエッチを用いて,サブ10nmフィン幅を有するInGaAsフィンFETを初めて作製した。しきい値電圧VTがサブ10nm Wfレンジにおけるフィン幅Wfに非常に敏感であることが分かった。Poisson-Schrodingerシミュレーションは,これが量子化効果によるものであることを示唆した。筆者らは,量子レジームにおいて,85°以下の側壁勾配は,同じ描かれた寸法でVT変化を著しく低減することも示した。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る