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J-GLOBAL ID：201602201847752460   整理番号：16A0025535

高い重合活性を示すジアセチレンゲル化剤の開発とゲル中へのポリジアセチレンパターンの形成

著者 (5件)： 高橋大樹 (東理大 院) ,  楢崎健太 (東理大 院) ,  玉置信之 (北大 電子科研) ,  青木健一 (東理大 院) ,  青木健一 (東京理大 理)
資料名： ポリマー材料フォーラム講演予稿集
巻： 24th  ページ： 64  発行年： 2015年11月11日 
JST資料番号： L2062A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ジイン ,  添加剤 ,  *光重合 ,  *ポリジアセチレン ,  導電性高分子 ,  *パターン形成 ,  鎖長効果 ,  フォトマスク ,  リソグラフィー ,  シクロアルカン ,  有機ゲル化剤 ,  マスク
準シソーラス用語： 紫外線リソグラフィー

分類 (3件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  単独重合  (CG04020S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： シクロヘキサン

タイトルに関連する用語 (6件)： 重合 ,  活性 ,  ジアセチレン ,  ゲル化剤 ,  開発 ,  ゲル