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J-GLOBAL ID:201602202209577428   整理番号:16A0232685

コア中間層としてニッケルと銅-ニッケルを用いるCrofer22APUとYSZとの反応性部分遷移液相拡散溶接(R-PTLPB)

Reactive Partial Transient Liquid Phase Bonding (R-PTLPB) of YSZ to Crofer22APU Using Nickel and Copper-Nickel as Core Interlayers
著者 (3件):
資料名:
巻: 2015 Vol.1  ページ: 403-410  発行年: 2015年 
JST資料番号: E0697C  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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コア中間層として純NiとCu-Ni箔(厚さはいずれも約50μm)を用い,金属のCrofer22APUとセラッミクのYSZとの反応性部分遷移液相拡散溶接(R-PTLPB)を行い,溶接性について種々検討した。Crofer22APUとYSZの表面には活性化元素(ZrとTi)の物理蒸着(厚さ1.3~12.1μm)を施し,プロセスパラメータのトルク,温度,保持時間を変えた8種類の溶接部についてBSE/SEM,EDX/EDSを用いて調べた。その結果,ポロシティは少なくて密な密封性の継手が得られ,少ない活性元素量で脆いTiXOYやZrXOYの形成を最小化することができる。純Niのコア中間層で安定したベストの結果が得られることなどを明らかにした。
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分類 (2件):
分類
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溶接技術  ,  セラミック・陶磁器の製造 

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