文献

J-GLOBAL ID：201602202377633368   整理番号：16A0001904

化学気相成長法で作成された垂直磁気異方性を有する高純度コバルト薄膜

High-purity cobalt thin films with perpendicular magnetic anisotropy prepared by chemical vapor deposition

著者 (7件)： OOTERA Yasuaki (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SHIMADA Takuya (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KADO Masaki (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  QUINSAT Michael (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  MORISE Hirofumi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  NAKAMURA Shiho (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KONDO Tsuyoshi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 8  号： 11  ページ： 113005.1-113005.3  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高純度コバルト薄膜の化学気相成長法の研究について報告する。Pt/Pt下層及びPtキャップ層を有するCo膜は,約1.8Tの飽和磁化(Ms),及び約10⁵J/m³の異方性エネルギー(Ku)を有する垂直磁気異方性(PMA)を示した。Kuのコバルト膜厚の依存性から,Co/Pt/界面の異方性が得られたPMAの起源であることが明らかになった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *垂直磁気異方性 ,  *コバルト ,  金属薄膜 ,  飽和磁化 ,  エネルギー
準シソーラス用語： 異方性エネルギー ,  *化学気相成長法

分類 (2件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S)

引用文献 (14件)：

• H. B. Bhandari, J. Yang, H. Kim, Y. Lin, R. G. Gordon, Q. M. Wang, J. M. Lehn, H. Li, and D. Shenaie, ECS J. Solid State Sci. Technol. 1, N79 (2012).
• J. V. Armstrong, M. Enrech, C. Decrouez, J. G. Lunney, and J. M. D. Coey, IEEE Trans. Magn. 26, 1629 (1990).
• N. Deo, M. F. Bain, J. H. Montgomery, and H. S. Gamble, J. Mater. Sci. 16, 387 (2005).
• M. F. Chioncel, H. S. Nagaraja, F. Rossignol, and P. W. Haycock, J. Magn. Magn. Mater. 313, 135 (2007).
• K. Kim, K. Lee, S. Han, T. Park, Y. Lee, J. Kim, S. Yeom, and H. Jeon, Jpn. J. Appl. Phys. 46, L173 (2007).

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学気相成長法 ,  垂直磁気異方性 ,  高純度 ,  コバルト ,  薄膜