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J-GLOBAL ID：201602202543734127   整理番号：16A0256290

Weylフェルミオン半金属TaAs,TaP,NbAs,及びNbPにおけるFermi面の相互連結とトポロジー

Fermi surface interconnectivity and topology in Weyl fermion semimetals TaAs, TaP, NbAs, and NbP

著者 (16件)： LEE Chi-Cheng (National Univ., Singapore) ,  XU Su-Yang (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  HUANG Shin-Ming (National Univ., Singapore) ,  SANCHEZ Daniel S. (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  BELOPOLSKI Ilya (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  CHANG Guoqing (National Univ., Singapore) ,  BIAN Guang (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  ALIDOUST Nasser (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  ZHENG Hao (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  NEUPANE Madhab (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  NEUPANE Madhab (Los Alamos National Lab., New Mexico, USA) ,  WANG Baokai (National Univ., Singapore) ,  WANG Baokai (Northeastern Univ., Massachusetts, USA) ,  BANSIL Arun (Northeastern Univ., Massachusetts, USA) ,  ZAHID HASAN M. (Princeton Univ., New Jersey, USA) ,  LIN Hsin (National Univ., Singapore)
資料名： Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻： 92  号： 23  ページ： 235104.1-235104.10  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *Fermi面 ,  ヒ化物 ,  *タンタル化合物 ,  リン化物 ,  *ニオブ化合物 ,  バンド構造 ,  フェルミオン ,  密度汎関数法
準シソーラス用語： Diracフェルミオン ,  GGA【近似】 ,  *Weyl半金属 ,  ヒ化タンタル

分類 (1件)： 金属結晶の電子構造  (BM02050C)

タイトルに関連する用語 (6件)： Weylフェルミオン ,  半金属 ,  TAP ,  Fermi面 ,  相互連結 ,  トポロジー