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J-GLOBAL ID：201602203953852123   整理番号：16A0173731

NbとZrB_2SiC間の反応防止に及ぼすZrC薄膜の効果【Powered by NICT】

Effect of ZrC Thin Film on Preventing Reactions between Nb and ZrB_2-SiC

著者 (5件)： Wang Bo (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Systhesis and Processing,Wuhan Univ. of Technol., Wuhan) ,  Li Junguo (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Systhesis and Processing,Wuhan Univ. of Technol., Wuhan) ,  Yang Haitao (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Systhesis and Processing,Wuhan Univ. of Technol., Wuhan) ,  Shen Qiang (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Systhesis and Processing,Wuhan Univ. of Technol., Wuhan) ,  Zhang Lianmeng (State Key Lab. of Advanced Technol. for Materials Systhesis and Processing,Wuhan Univ. of Technol., Wuhan)
資料名： Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)
巻： 44  号： 10  ページ： 2762-2766  発行年： 2015年 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ZrB_2,SiC粉末を原料として使用して,緻密なZrB_2SiCセラミックスは1800°C30MPa,5分間の保持時間でのプラズマ活性化焼結により作製した。Nb箔上にZrC膜をマグネトロンスパッタリングにより作製した。ZrC膜を有するZrB_2SiCセラミックとNbは積層材料として焼結した。実験的調査の方法はX線回折(XRD)と電界放出走査電子顕微鏡(FE-SEM)で構成されている。その結果,焼結温度は1500°C未満であるとき,ZrC膜は良く保存され,セラミックと金属との反応を防ぐことができることを示した。最高の破壊靭性は9.66MPa m~(1 /2)。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 保持時間 ,  積層材料 ,  *炭化ケイ素 ,  プラズマ ,  焼結 ,  粉体 ,  破壊靱性 ,  *ニオブ ,  X線回折 ,  セラミック ,  マグネトロンスパッタリング ,  *薄膜
準シソーラス用語： 焼結温度 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  活性化焼結 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (2件)： Nb ,  薄膜