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J-GLOBAL ID：201602205465275225   整理番号：16A0026192

ナノサイズのAgとAl表層を用いた透明ITO/Ag/ITO多層の仕事関数制御

Work function control of transparent ITO/Ag/ITO multilayer using nano-sized Ag and Al top layer

著者 (3件)： KIM Hyo-Joong (Kyung Hee Univ., Gyeoggi-do, KOR) ,  SEO Ki-Won (Kyung Hee Univ., Gyeoggi-do, KOR) ,  KIM Han-Ki (Kyung Hee Univ., Gyeoggi-do, KOR)
資料名： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 40  号： 4  ページ： 401-404  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： L4468A  ISSN： 1382-3469  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,ITO/Ag/ITO(IAI)多層膜の電気的と光学的特性だけでなく仕事関数に及ぼすナノサイズのAgとAl層の影響についても報告した。AgとAl層の厚さの増加により,著者らは,IAI多層の電気的と光学的特性の変化を,詳細に調べた。AgとAl上層の厚さに関係なく,IAI多層は,~5オーム/スクエアの一定のシート抵抗と~87%の高い透過率を示した。しかし,IAI多層の表面形態と微細構造は,異なる酸化挙動のため,ナノサイズAlとAgカバー層により影響を受けた。ナノサイズAgカバー層を持つIAI多層の仕事関数は,Agの厚さに関係なく一定(~4.95eV)で,一方,Al層を持つIAI多層の仕事関数は,Al厚さの増加により,4.95eVから4.75eVに減少した。これは,ナノサイズAlの被覆が,IAI多層膜の仕事関数を減らすための効果的方法であることを示す。

シソーラス用語： 基板 ,  ガラス ,  *酸化インジウムスズ ,  *銀 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *シート抵抗 ,  *多層膜 ,  *透過率 ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  微細構造 ,  *仕事関数
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング ,  ITO ,  表面形態

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O) ,  光物性一般  (BM08010A)

引用文献 (14件)：

• [1] J-A. Jeong, J.-Y. Lee, and H.-K. Kim, Electrochem. Solid State Lett., 12, J105-J108 (2009)
• [2] J.-W. Lim, S. J. Kang, S. Lee, J. J. Kim, and H.-K. Kim, J. Appl. Phys., 112, 023513 (2012)
• [3] S. Y. Ryu et al., Appl. Phys. Lett., 92, 023306 (2008)
• [4] K.-H. Choi, H.-W. Koo, T.-W. Kim, and H.-K. Kim, Appl. Phys. Lett., 100, 263505 (2012)
• [5] Y.-S. Park, K.-H. Choi, and H.-K. Kim, J. Phys. D : Appl. Phys., 42, 235109 (2009)

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノサイズ ,  Ag ,  Al ,  表層 ,  ITO ,  多層 ,  仕事関数