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J-GLOBAL ID：201602205566992807   整理番号：16A0035166

高ガス圧でのMPCVDによる多結晶ダイヤモンド膜の高速成長【Powered by NICT】

Rapid Growth of Polycrystalline Diamond Films by MPCVD at High Gas Pressure

著者 (4件)： Zhou Xueqin (School of Materials Sci. and Engineering,Changzhou Univ., Changzhou) ,  Shi Yufen (School of Materials Sci. and Engineering,Changzhou Univ., Changzhou) ,  Li Kun (School of Materials Sci. and Engineering,Changzhou Univ., Changzhou) ,  Liu Xiaoli (Changzhou BaoYi Diamond Technologies Co. Ltd., Changzhou)
資料名： Guisuanyan Tongbao  (Guisuanyan Tongbao)
巻： 34  号： 8  ページ： 2177-2180  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2439A  ISSN： 1001-1625  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 最近の研究は,増加ガス圧力とマイクロ波パワーをマイクロ波プラズマ化学蒸着(MPCVD)によるダイヤモンド膜の成長速度を改善するための有効な方法であることを示した。本論文では,多結晶ダイヤモンド膜は,新しく開発した円筒形MPCVD反応器で異なるメタン濃度で得られた,ソースガスとしてH_2-CH_4をした。ガス圧と入力マイクロ波パワーは,それぞれ30kPaおよび5.8kWに固定した。ダイヤモンド膜の表面形態,相と品質を走査電子顕微鏡,X線回折およびRaman分光法技術により測定した。結果は,メタン濃度は2.5%から5%に増加すると高ガス圧で堆積した高品質ダイヤモンド膜の成長速度を7.5μm/hから27.5μm/hに上昇したことを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 品質 ,  マイクロ波 ,  反応器 ,  *多結晶 ,  走査電子顕微鏡 ,  仕事率 ,  X線回折 ,  成長速度 ,  *高速度 ,  Raman分光法 ,  円筒
準シソーラス用語： 高品質 ,  表面形態 ,  *ダイヤモンド膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 薄膜一般  (BK14010X) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： ガス圧 ,  MPCVD ,  多結晶 ,  ダイヤモンド膜 ,  成長