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J-GLOBAL ID：201602206100235913   整理番号：16A0193215

SiO_x膜の均一高分解能レーザパターニングによる大面積シリカナノ格子

Large Area Silica Nano Grids by Homogeneous High Resolution Laser Patterning of SiO_x-Films

著者 (4件)： KOEHNE David (Laser-Lab. Goettingen, Goettingen, DEU) ,  FRICKE-BEGEMANN Thomas (Laser-Lab. Goettingen, Goettingen, DEU) ,  WEICHENHAIN-SCHRIEVER Ruth (Laser-Lab. Goettingen, Goettingen, DEU) ,  IHLEMANN Juergen (Laser-Lab. Goettingen, Goettingen, DEU)
資料名： Journal of Laser Micro/Nanoengineering (Web)  (Journal of Laser Micro/Nanoengineering (Web))
巻： 10  号： 2  ページ： 158-161 (WEB ONLY)  発行年： 2015年05月 
JST資料番号： U0377A  ISSN： 1880-0688  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 融解シリカ基板上のSiO_x薄膜の構造化エキシマレーザ背面照射は複雑なマイクロおよびナノパターンの形成のために使われる。SiO_x膜の上部の閉じ込め層として働く重合体上層は非常に滑らかで規則的なパターンの形成を可能にする。レーザ加工のパラメータに依存して,直径が100nm以下の自立ワイヤによって膨らみあるいは尖り,あるいは格子のどれかを作ることが出来る。単一KrFレーザパルス(波長248nm)を使って比較的大きい面積上で高い構造分解能のこれ等のナノフィーチャを得るために,高分解能のマスクイメージング光学システムとビーム均質化装置とを組み合わせた光学システムを設置した。300から400mJ/cm²の範囲のフルエンスで,基板から離れているワイヤを持つ非常に規則的な格子パターンと基板と繋がっているノードが得られる。自律したワイヤは100nm以下の直径を持つ。パターン形成されたSiO_x材料は熱的にまたはレーザ処理によって酸化することが出来る。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *レーザ加工 ,  *酸化ケイ素 ,  *誘電体薄膜 ,  石英ガラス ,  基板 ,  エキシマレーザ ,  レーザ照射 ,  パターン形成 ,  高分子膜 ,  上層 ,  *格子 ,  *ナノ構造
準シソーラス用語： 融解石英

分類 (2件)： 特殊加工  (QC04000Y) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

引用文献 (12件)：

• N. Kaiser, H.K. Pulker eds., Optical Interference Coatings, Springer-Verlag Berlin Heidelberg 2003.
• P.J. Harrop, D.S. Campbell, Thin Solid Films 2, 213 (1968).
• L. Khriachtchev ed., Silicon Nanophotonics, World Scientific Publishing, Singapore 2009.
• L. Pavesi, Advances in Optical Technologies, vol. 2008, Article ID 416926.
• L. Yi, R. Scholz, M. Zacharias, Journal of Luminescence 122-123, 750 (2007).

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分解能 ,  レーザパターニング ,  大面積 ,  シリカ ,  ナノ格子