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J-GLOBAL ID：201602206905680921   整理番号：16A0095736

太陽電池応用のためのケイ素ナノおよびマイクロピラーアレイの作製およびドーピング法 総説

Fabrication and Doping Methods for Silicon Nano- and Micropillar Arrays for Solar-Cell Applications: A Review

著者 (5件)： ELBERSEN Rick ,  VIJSELAAR Wouter (Molecular Nanofabrication, MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P.O. Box 217, 7500, AE, Enschede, NLD) ,  TIGGELAAR Roald M. (Mesoscale Chemical Systems, MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P.O. Box 217, 7500, AE, Enschede, NLD) ,  GARDENIERS Han (Mesoscale Chemical Systems, MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P.O. Box 217, 7500, AE, Enschede, NLD) ,  HUSKENS Jurriaan (Molecular Nanofabrication, MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, P.O. Box 217, 7500, AE, Enschede, NLD)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 27  号： 43  ページ： 6781-6796  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ケイ素は市販太陽電池の主成分の一つであり,他の多くの太陽光捕集素子でも使用されている。これらの素子の全効率はPNラジアル接合をもつナノメートルからミクロメートルサイズのピラーを含む表面構造の使用により増強できる。このような構造の高密度化により素子の光吸収特性は顕著に増強され,一方三次元PN接合構造は少数キャリアの拡散長を短縮し再結合を減少させる。今日存在する多様なケイ素ナノおよびミクロ構造化技術により,このような高度構造化試料の作製のための多くの汎用法が利用できる。さらに構造化表面上のPN接合生成は多様なドーピング技術により可能であり,その多くはミクロ電子回路技術からの転用である。27種のドーピング法からの妥当な選定により接合深さおよびドーピングレベルの良好な制御が達成され,エネルギー応用素子で得られる全体効率の改善に寄与できる。ケイ素ミクロおよびナノピラーの作製およびドーピング技術の現状を総説し,あわせてこれにより作製された三次元構造化PN接合の特性および構造を解析した。Copyright 2016 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ケイ素 ,  *ナノ構造 ,  *柱 ,  *微細構造 ,  アレイ ,  ドーピング ,  *太陽電池 ,  *表面構造 ,  PN接合 ,  *素子構造 ,  緻密化 ,  少数キャリア ,  拡散距離 ,  キャリア再結合 ,  光吸収 ,  エネルギー変換効率 ,  走査電子顕微鏡 ,  シート抵抗 ,  二次イオン質量分析 ,  光吸収スペクトル
準シソーラス用語： SIMS分析 ,  *ナノピラー ,  *マイクロピラー ,  *ラジアルゲート ,  拡散長 ,  高密度化 ,  *三次元構造

分類 (4件)： 半導体の表面構造  (BK15030A) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  太陽電池  (NC03084O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 太陽電池 ,  応用 ,  ケイ素 ,  ピラーアレイ ,  作製 ,  ドーピング ,  総説