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J-GLOBAL ID：201602207862108656   整理番号：16A0380132

LSIs用のナノカーボン相互接続技術の現状と将来展望

Present Status and Future Prospects of Nano-Carbon Interconnect Technologies for LSIs

著者 (1件)： AWANO Yuji (Keio Univ., Yokohama, JPN)
資料名： Technical Digest. International Electron Devices Meeting  (Technical Digest. International Electron Devices Meeting)
巻： 2015  ページ： 398-401  発行年： 2015年 
JST資料番号： C0829B  ISSN： 0163-1918  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： カーボンナノチューブ(CNTs)やグラフェンのようなナノカーボン材料は,次世代超LSI用のCuに代わる材料として期待されている。本稿では,CNT垂直相互接続(バイアホール)とグラフェン水平相互接続によるナノカーボン相互接続技術の現状と将来について報告した。従来のSi LSI技術とのプロセス適合性を考慮した材料成長技術とプロセス技術について述べた。そして特別な条件で,ナノカーボン材料にはCu相互接続に勝る優れた電気的性質があることを述べた。

シソーラス用語： クラスタ分子 ,  ナノ構造 ,  *相互接続 ,  グラフェン ,  *カーボンナノチューブ ,  バイアホール ,  *超LSI ,  適応性
準シソーラス用語： ナノカーボン ,  適合性

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノカーボン ,  相互接続 ,  現状 ,  将来展望