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J-GLOBAL ID：201602207878738099   整理番号：16A0105117

o-フェニレンジアミドを含むN₂P₂型Ni錯体の合成と性質

著者 (4件)： 伊東貴寛 (中央大 理工) ,  脇坂聖憲 (中央大 理工) ,  松本剛 (中央大 理工) ,  CHANG Ho-Chol (中央大 理工)
資料名： 錯体化学会討論会講演要旨集  (Book of Abstracts. JSCC Annual Symposium)
巻： 65th  ページ： 355  発行年： 2015年09月01日 
JST資料番号： G0400B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ニッケル錯体 ,  ホスフィン錯体 ,  *有機リン化合物 ,  ジアミン ,  *芳香族アミン ,  錯体生成 ,  *化学合成 ,  X線構造解析 ,  X線回折 ,  *結晶構造 ,  *電気化学的挙動 ,  *光学的性質 ,  エネルギーギャップ ,  分光測光 ,  分光分析 ,  分子構造 ,  酸化還元電位 ,  X線結晶構造解析 ,  フェニレンジアミン類 ,  配位構造 ,  分光特性
準シソーラス用語： *錯体形成 ,  分光学的特性

分類 (6件)： コバルトとニッケルの錯体  (CE01092Y) ,  有機りん化合物  (CF08040N) ,  芳香族単環アミン・イミン・第四アンモニウム・インモニウム  (CF05050D) ,  鉄族元素の錯体の結晶構造  (BK09040I) ,  電気化学一般  (CB07010N) ,  分光分析  (CC03012W)

物質索引 (1件)： N,N′-(1,2-フェニレン)ビス[(ジイソプロピルホスフィノ)アセトアミド]

タイトルに関連する用語 (3件)： Ni ,  錯体 ,  性質