文献

J-GLOBAL ID：201602208999113548   整理番号：16A0178509

セラミックスと異種材料の接合技術 原子拡散接合法によるセラミックスと異種材料との室温接合

著者 (2件)： 島津武仁 (Tohoku Univ.) ,  魚本幸 (Tohoku Univ.)
資料名： セラミックス  (Bulletin of the Ceramic Society of Japan)
巻： 51  号： 2  ページ： 91-93  発行年： 2016年02月01日 
JST資料番号： S0291A  ISSN： 0009-031X  CODEN： SERAA7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 原子拡散接合法は,接合するウエハ等の基体の被接合面にスパッタ等で金属薄膜を形成し,同一真空中あるいは大気に取り出した後,薄膜を相互に接触させて接合する方法である。表面活性化法と同様に,室温で基体を接合できる。本稿では,Au薄膜を用いた大気中の原子拡散接合方法を例に,石英やサファイア等のセラミックと異種材料の室温接合の技術ポテンシャルについて解説した。1)接合の基本プロセス:大気中の原子拡散接合の基本プロセス,2)セラミックウエハの接合と接合強度:サファイアウエハを接合したときのAu/Au膜界面の原子配列の進行過程,3)厚みのあるセラミック基体の接合,4)セラミックと鏡面研磨金属の接合:Au/Ti薄膜で石英と鏡面研磨したAlを接合した例。

シソーラス用語： *異種材料接合 ,  *セラミック ,  *金属 ,  ウエハ【IC】 ,  *拡散接合 ,  拡散 ,  室温 ,  蒸着膜 ,  金 ,  チタン ,  アルミニウム ,  石英 ,  サファイア ,  表面構造 ,  付着強さ ,  研削 ,  配列 ,  結晶構造
準シソーラス用語： 原子拡散 ,  界面組織 ,  接合強さ ,  鏡面研削 ,  原子配列

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

引用文献 (16件)：

• T. Shimatsu and M. Uomoto, J. Vac. Sci. Technol. B, 28, 706-714 (2010).
• 島津武仁,魚本 幸, まてりあ (日本金属学会), 49, 521-527 (2010).
• T. Shimatsu and M. Uomoto, ECS Transactions, 33, 61-72 (2010).
• T. Suga, K. Miyazawa and Y. Yamagata, MRS Internal Meeting on Advanced Materials, Materials Research Society, 8, 257 (1989).
• T. Suga, Y. Takahashi, H. Takagi, B. Gibbesch and G. Elssner, Acta Metall. Mater., 40, s133-s137 (1992).

タイトルに関連する用語 (4件)： セラミックス ,  異種材料 ,  原子拡散 ,  室温