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J-GLOBAL ID:201602209578365293   整理番号:16A0273121

CsとO2との交互供給によるAs末端GaAs(001)(2×4)表面上のCs吸着構造に関するSTM研究

STM Study on Adsorption Structures of Cs on the As-Terminated GaAs(001) (2×4) Surface by Alternating Supply of Cs and O2
著者 (8件):
資料名:
巻: E99.C  号:ページ: 376-380 (J-STAGE)  発行年: 2016年 
JST資料番号: U0468A  ISSN: 1745-1353  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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半導体表面上にアルカリ金属(例えばCs,Rb,K)と酸素とを交互に供給することで負の電子親和性(NEA)表面を形成できる。走査トンネル顕微鏡法(STM)を用いてAs末端(2×4)(001)GaAs表面上のCs吸着構造を調べた。Cs原子の初期吸着はCsクラスタ形態におけるステップサイトの周辺で生じ,クラスタサイズはO2に暴露することで小さくなることが分かった。これは,As末端(2×4)表面はGa末端表面と比較して相対的に安定であり,Csクラスタ吸着により破壊されないことを示唆している。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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半導体の表面構造  ,  物理的手法を用いた吸着の研究 
引用文献 (29件):
  • [1] K. Togawa, T. Nakanishi, T. Baba, F. Furuta, H. Horinaka, T. Ida, Y. Kurihara, H. Matsumoto, T. Matsuyama, M. Mizuta, S. Okumi, T. Omori, C. Suzuki, Y. Takeuchi, K. Wada, and M. Yoshioka, “Surface chage limit in NEA superlattice photocathodes of polarized electron source,” Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect.A, vol.414, no.2-3, pp.431-445, Sept. 1998.
  • [2] T. Nishitani, M. Tabuchi, Y. Takeda, Y. Suzuki, K. Motoki, and T. Meguro, “High-Brightness Spin-Polarized Electron Source Using Semiconductor Photocathodes,” Jpn. J. Appl. Phys., vol.48, no.6S, pp.06FF02_1-3, June 2009.
  • [3] D.T. Pierce, R.J. Celotta, G.-C. Wang, W.N. Unertl, A. Galejs, C.E. Kuyatt, and S.R. Mielczarek, “The GaAs spin polarized electron source,” Rev. Sci. Instrum., vol.51, no.4, pp.478-499, April 1980.
  • [4] M. Kuwahara, Y. Takeda, K, Saitoh, T. Ujihara, H. Asano, T. Nakanishi, and N. Tanaka, “Development of spin-polarized transmission electron microscope,” PESE2010., Bonn, J. Phys.: Conf. Ser. PESE2010., Bonn, The Gammny, vol.295, no.1, pp.012016_1-6, Sept. 2011.
  • [5] M. Kuwahara, S. Kusunoki, X.G. Jin, T. Nakanishi, Y. Taleda, K. Saitoh, T. Ujihara, H. Asano, and N. Tanaka, “30-kV spin-polarized transmission electron microscope with GaAs-GaAsP strained superlattice photocathode,” Appl. Phys. Lett., vol.101, no.3, pp.033102_1-3, July 2012.
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