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J-GLOBAL ID：201602210147914956   整理番号：16A0131265

DMDベースのグレースケールリソグラフィを使った3D微細構造のための数値最適化の実験研究

Experimental Study of Numerical Optimization for 3-D Microstructuring Using DMD-Based Grayscale Lithography

著者 (7件)： MA Xiaoxu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KATO Yoshiki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  VAN KEMPEN Floris (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  HIRAI Yoshikazu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TSUCHIYA Toshiyuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  VAN KUELEN Fred (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  TABATA Osamu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Journal of Microelectromechanical Systems  (Journal of Microelectromechanical Systems)
巻： 24  号： 6  ページ： 1856-1867  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 厚いフォトレジストで3D構造を作るのにグレースケールフォトリソグラフィが使われ,その手段としていくつかが提案されている。その中でディジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を使う方法が最も注目されている。DMDは光学マスクを使わずにグレースケールマスクを直接投影する。DMDグレイスケールリソグラフィのプロセスパラメータで,露光ドーズパターン,レジスト中の焦点位置,現像寺間が3D微細構造のプロファイル決定に重要である。本稿は,3Dフォトリソグラフィシミュレーションと感度解析に基づいたDMDグレースケールリソグラフィのプロセス最適化を提案する。この最適化ツールは三つのプロセスパラメータを自動的に最適化するだけでなく,可変重みづけ係数を適用して制作精度を改善する。20μm厚のポジレジストで,提案する最適化法の有効性と制作精度改善を示した。

シソーラス用語： *三次元 ,  *微細構造 ,  *フォトリソグラフィー ,  反射鏡 ,  *グレースケール ,  最適化 ,  計算機シミュレーション ,  フォトレジスト ,  構造 ,  感度解析 ,  プロセス最適化 ,  マイクロミラー ,  リソグラフィーシミュレーション ,  *計測器 ,  改変 ,  計算機利用 ,  利用
準シソーラス用語： 三次元構造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 3D ,  微細構造 ,  数値最適化 ,  実験 ,  研究