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J-GLOBAL ID：201602210752741427   整理番号：16A0018911

極端紫外線リソグラフィーを超えるための金属吸収材料の評価

Evaluation of Metal Absorber Materials for Beyond Extreme Ultraviolet Lithography

著者 (6件)： HONG Seongchul (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Jung Sik (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Jae Uk (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Seung Min (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Jung Hwan (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  AHN Jinho (Hanyang Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 15  号： 11  ページ： 8652-8655  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線リソグラフィー(EUVL)は13.5nmの波長を利用するが,EUVは材料中で容易に吸収される。そこで,6.7nm波長を用いるbeyond極端紫外線リソグラフィー(BEUVL)が研究されている。本研究では,バイナリ強度BEUVLマスクの吸収体として金属(Ni,Co,Ir,W,Ta)を利用する可能性を検討した。各物質の反射率を<1%に抑える厚みを用いてマスク撮像特性をシミュレーションした。La/B二層鏡は6.7nmで高い反射率を示した。開口数,入射角,拡大率はそれぞれ0.5,6°,8×であった。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *吸収体 ,  光吸収 ,  *フォトマスク ,  反射率 ,  金属薄膜 ,  開口数 ,  入射角
準シソーラス用語： *極端紫外線リソグラフィー ,  光反射率 ,  EUVL

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 極端紫外線リソグラフィー ,  吸収材料 ,  評価