文献

J-GLOBAL ID：201602211369141846   整理番号：15A1254268

空間分離原子層堆積条件の最適化【Powered by NICT】

Optimization of Spatially-Separated Atomic Layer Deposition Conditions

著者 (4件)： Chu Bo (State Key Lab. of Digital Manufacturing Equipment and Technol., School of Mechanical Sci. and Engineering, Huazhong ...) ,  He Wenjie (State Key Lab. of Digital Manufacturing Equipment and Technol., School of Mechanical Sci. and Engineering, Huazhong ...) ,  Gao Yule (State Key Lab. of Digital Manufacturing Equipment and Technol., School of Mechanical Sci. and Engineering, Huazhong ...) ,  Chen Rong (State Key Lab. of Digital Manufacturing Equipment and Technol., School of Mechanical Sci. and Engineering, Huazhong ...)
資料名： Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao  (Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao)
巻： 35  号： 7  ページ： 892-896  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2159A  ISSN： 1672-7126  CODEN： CKKSDV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 合成条件を大型基板上で高度に均一な,空間分離原子層の連続堆積のための最適化した。線形成長速度に対する,基板と前駆体注入装置の間の基板温度,圧力,及び分離の変動などの,Al_2O_3の堆積条件の影響を評価し,自家製のreactorand原子間力顕微鏡を用いて実験的に調べwasanalytically。結果は基板温度の基板/インジェクタ距離と安定性はAl_2O_3層の品質に強く影響することを示した。具体的には,3,1および0.7mmの間隔で,50サイクルの成長率は0.422,0.182と0.1.60nm/サイクルであった。最適化された基板/インジェクタ距離と前駆体注入器からの気体流の温度補償のために変動を抑えてかなり安定な基板温度で蒸着したAl_2O_3の空間的に分離された原子層を原子間均一性と滑らかさを持つ合成した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 線形性 ,  温度補償 ,  原子間力顕微鏡 ,  *最適化 ,  成長率 ,  成長速度 ,  平滑度 ,  インゼクタ ,  前駆体 ,  品質 ,  *堆積 ,  気体流 ,  基板温度 ,  サイクル

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (2件)： 原子層堆積 ,  最適化