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J-GLOBAL ID：201602211633112221   整理番号：16A0001870

窒素及びホウ素でドーピングされたグラフェン層の分光学的分析

Spectroscopic characterization of nitrogen- and boron-doped graphene layers

著者 (5件)： KAMOI Susumu (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto, JPN) ,  KIM Jung Gon (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto, JPN) ,  HASUIKE Noriyuki (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto, JPN) ,  KISODA Kenji (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  HARIMA Hiroshi (Kyoto Inst. of Technol., Kyoto, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 54  号： 11  ページ： 115101.1-115101.5  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素及びホウ素でドーピングされたグラフェン層を銅基板上にアルコール化学気相蒸着法で成長し,Raman分光,X線光電子分光(XPS),電気伝導測定で評価した。高品質の単層グラフェンの成長がマイクロラマン分光で確認された。G及び2Dピークは不純物濃度の増加とともに系統的に周波数のシフト及び広がりを示した。GピークはFano状の非対称のライン形状を示した。これらの振る舞いはドーピングによって,フリーキャリアーが発生したことを示している。XPS及び電気伝導測定からもグラフェン層における系統的な不純物取り込みを支持した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *窒素 ,  *ホウ素 ,  *ドーピング ,  *グラフェン ,  単一層 ,  *化学蒸着 ,  Raman分光法 ,  X線光電子分光法 ,  電気伝導 ,  自由粒子 ,  電子
準シソーラス用語： 化学気相成長 ,  自由電子

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  有機化合物の電気伝導  (BM03045F)

引用文献 (26件)：

• K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, M. I. Katsnelson, I. V. Grigorieva, S. V. Dubonos, and A. A. Firsov, Nature 438, 197 (2005).
• H. B. Heersche, P. Jarillo-Herrero, J. B. Oostinga, L. M. K. Vandersypen, and A. F. Morpurgo, Nature 446, 56 (2007).
• A. Das, S. Pisana, B. Chakraborty, S. Piscanec, S. K. Saha, U. V. Waghmare, K. S. Novoselov, H. R. Krishnamurthy, A. K. Geim, A. C. Ferrari, and A. K. Sood, Nat. Nanotechnol. 3, 210 (2008).
• H. Liu, Y. Liu, and D. Zhu, J. Mater. Chem. 21, 3335 (2011), and references therein.
• A. Lherbier, X. Blase, Y.-M. Niquet, F. Triozon, and S. Roche, Phys. Rev. Lett. 101, 036808 (2008).

タイトルに関連する用語 (6件)： 窒素 ,  ホウ素 ,  ドーピング ,  グラフェン ,  分光学 ,  分析