文献

J-GLOBAL ID：201602213033892617   整理番号：16A0096409

Pt-Cu及びCu修飾ホウ素ドープダイヤモンドの電気化学

Electrochemical aspects of Pt-Cu and Cu modified boron-doped diamond

著者 (5件)： MAVROKEFALOS Christos K. (Dep. of Chemistry, Chemistry Res. Lab., Univ. of Oxford, Mansfield Road, Oxford, OX1 3TA, GBR) ,  NELSON Geoffrey W. ,  POLL Christopher G. (Dep. of Materials, Imperial Coll. London, Royal School of Mines, Exhibition Road, London, SW7 2AZ, GBR) ,  COMPTON Richard G. (Dep. of Chemistry, Physical and Theoretical Chemistry Lab., Univ. of Oxford, South Parks Road, Oxford, OX1 3QZ, GBR) ,  FOORD John S. (Dep. of Chemistry, Chemistry Res. Lab., Univ. of Oxford, Mansfield Road, Oxford, OX1 3TA, GBR)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻： 212  号： 11  ページ： 2559-2567  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 1862-6300  CODEN： PSSABA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究で,Pt-Cuまたは純Cuナノ粒子修飾のホウ素ドープダイヤモンド(BDD)電極の合成について記述する。Cuに続いてPtの電着を包む2テップの電気化学法が前記の合成するために使われた。Pt-Cu/BDD電極の電気化学活性は,メタノール酸化について評価され,Pt/BDD電極の触媒活性と比較された。メタノール酸化の間のPt-Cu/BDD触媒で高い電流密度及び低いフォールディングは,Pt単独と比較さる。また,Cuナノ粒子を使ってBDD電極を修飾する簡単な,コスト効率的な方法が追及された。KOHにおけるグルコース酸化に対する高い感度及び電流応答は,良い再現性及び安定性と共に観察される。KOHにおけるグルコースに対するCu/BDDの選択性は,低濃度の干渉する化学種の存在下で観察される。Copyright 2016 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,  ホウ素 ,  ドーピング ,  *半導体電極 ,  銅 ,  白金 ,  X線光電子分光法 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  曲線 ,  電気特性 ,  アンペロメトリー ,  電着 ,  ナノ粒子 ,  酸化 ,  糖質代謝 ,  水酸化カリウム ,  *グルコースセンサ ,  *触媒活性 ,  直接メタノール燃料電池 ,  ヘキソース ,  アルドース
準シソーラス用語： ホウ素ドープダイヤモンド ,  ホウ素ドーピング ,  ホウ素ドープダイヤモンド電極 ,  サイクリックボルタモグラム ,  電流密度-電圧特性 ,  グルコース酸化 ,  電極触媒活性

分類 (3件)： 分析機器  (CC02020S) ,  その他の電気・電子部品  (NA05090R) ,  燃料電池  (YB04040V)

物質索引 (1件)： グルコース

タイトルに関連する用語 (4件)： Cu ,  修飾 ,  ホウ素ドープダイヤモンド ,  電気化学