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J-GLOBAL ID：201602213163882109   整理番号：16A0102074

室温で堆積させたITO膜の光電特性に及ぼすスパッタリング時間の影響【Powered by NICT】

Influence of Sputtering Time on the Photoelectric Properties of ITO Thin Films Deposited at Room Temperature

著者 (6件)： Huang Chengliang (Shandong Nonmetal Metal Material Res. Inst., Ji’nan) ,  Li Yongbo (Shandong Nonmetal Metal Material Res. Inst., Ji’nan) ,  Zhang Yong (Armored Military Repersentative Office Stationed in Jinan Area, Ji’nan) ,  Wang Ming (Shandong Nonmetal Metal Material Res. Inst., Ji’nan) ,  Zhang Yuankun (Shandong Nonmetal Metal Material Res. Inst., Ji’nan) ,  Jia Zengmin (Shandong Nonmetal Metal Material Res. Inst., Ji’nan)
資料名： Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)
巻： 44  号： 4  ページ： 1051-1055  発行年： 2015年 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高品質のITO透明導電性酸化物薄膜を対向ターゲット室温,電気伝導率に及ぼすスパッタリング時間の影響,可視スペクトルにおける光透過率と赤外放射率でマグネトロンスパッタリングを研究した6cm×6cmサイズの有機ガラス基板上に堆積した。スパッタリング時間が増加すると,ITO膜の厚さは直線的に増加し,薄膜の構造は非晶質から(400)と(440)優先配向した多結晶構造であった。抵抗率は急速に減少し,キャリア濃度が増加し,60分限りを堆積した薄膜は最高の電気伝導率を持ち,抵抗率は2.1×10~(-4)cmであり,キャリア濃度は1.2×10~(21)cm~(-3)であり,一方,赤外放射率は0.17であった。ITO薄膜の透過率はスパッタリング時間の増加と共に減少し,UV-Visスペクトルを紫外領域における赤方偏移現象を示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *スパッタリング ,  優先配向 ,  電気伝導率 ,  キャリア密度 ,  マグネトロンスパッタリング ,  赤方偏移 ,  多結晶 ,  可視スペクトル ,  透過率 ,  薄膜 ,  電気抵抗率
準シソーラス用語： 紫外領域 ,  光透過率 ,  透明導電性酸化物 ,  高品質 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 室温 ,  堆積 ,  ITO膜 ,  光電特性 ,  スパッタリング