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J-GLOBAL ID：201602213415531371   整理番号：16A0181709

ゾル-ゲル法向け架橋シルセスキオキサン前駆体からの多孔性(架橋ポリシルセスキオキサン)無機薄膜

Porous inorganic thin films from bridged silsesquioxane sol-gel precursors

著者 (8件)： BRIGO Laura (Univ. Padova, and INSTM Padova RU, Padova, ITA) ,  BRIGO Laura (Bruno Kessler Foundation, Trento, ITA) ,  FAUSTINI Marco (Coll. de France, Sorbonne Univ., UPMC Univ Paris 06, Paris, FRA) ,  PISTORE Anna (Univ. Padova, and INSTM Padova RU, Padova, ITA) ,  KANG Husen K. (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP) ,  FERRARIS Cristiano (Museum National d’Histoire Naturelle, Paris, FRA) ,  SCHUTZMANN Stefano (LOT-QuantumDesign s.r.l., Rome, ITA) ,  BRUSATIN Giovanna (Univ. Padova, and INSTM Padova RU, Padova, ITA)
資料名： Journal of Non-Crystalline Solids  (Journal of Non-Crystalline Solids)
巻： 432  号： Pt.B  ページ： 399-405  発行年： 2016年01月15日 
JST資料番号： D0642A  ISSN： 0022-3093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *有機ケイ素化合物 ,  *分子構造 ,  *フェニル基 ,  *前駆体 ,  *単量体 ,  フッ化物 ,  触媒 ,  溶媒 ,  *ポリシルセスキオキサン ,  *ゾル-ゲル法 ,  *薄膜 ,  *スピンコーティング ,  光学的性質 ,  構造特性 ,  熱硬化 ,  FTIR分光法 ,  示差熱分析 ,  熱重量分析 ,  偏光解析法 ,  監視 ,  二酸化ケイ素 ,  *ネットワーク構造 ,  分子 ,  除去 ,  緻密化 ,  膜 ,  *屈折率 ,  発泡剤 ,  空隙率 ,  機械的性質 ,  相対湿度 ,  透過型電子顕微鏡 ,  直径 ,  分布 ,  細孔 ,  環状エーテル
準シソーラス用語： *シルセスキオキサン ,  *架橋構造 ,  光学特性 ,  分光偏光解析 ,  モニタリング ,  *シリカ ,  鋳型分子 ,  多孔質膜 ,  ポロゲン ,  多孔度 ,  口径 ,  サイズ分布 ,  ナノ孔

分類 (4件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  単独重合  (CG04020S) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (3件)： テトラブチルアンモニウム ,  テトラヒドロフラン ,  1,4-フェニレンビス(トリエトキシシラン)

タイトルに関連する用語 (7件)： ゾル-ゲル法 ,  架橋 ,  シルセスキオキサン ,  前駆体 ,  多孔性 ,  ポリシルセスキオキサン ,  薄膜