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J-GLOBAL ID：201602213651454930   整理番号：16A0133043

RF反応性スパッタリングによるCNx膜形成における摩擦特性に及ぼすスパッタガスの影響

著者 (4件)： 城谷友保 (千葉工大) ,  坂本幸弘 (千葉工大) ,  斎藤邦夫 (日本コーティングセ) ,  川名淳雄 (日本コーティングセ)
資料名： 千葉工業大学研究報告(Web)  (Report of C.I.T. (Web))
号： 62  ページ： 9-14 (WEB ONLY)  発行年： 2015年01月01日 
JST資料番号： U0597A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 非晶質窒化炭素(CNx)は高い硬度と弾性回復率を有し,DLCに代わるハードディスク表面の保護膜への適用が期待されている。本研究では,RF反応性スパッタリングによるCNx 膜形成におけるスパッタガス中のN₂分圧と試料台電位が膜構造と機械的特性に及ぼす影響について調べた。生成物はDLCと同様の構造であり,Nの含有率は最大でも25%程度である。試料台電位をアースにした条件で作製した場合は,N₂添加とN₂分圧の増加に伴い,C=N,C≡Nおよびグラファイト成分が増加し,硬度が低下する。一方,試料台電位をフローティングにした場合は,スパッタガスへのN₂の添加により成膜速度は急激に増加し,硬度が低下した。試料台電位をアースにした条件で作製した試料と比較すると,いずれも硬度は低く,スパッタガスにN₂を添加して作製した場合において,C=NおよびC≡N結合成分が多いことがわかった。CNx 膜の摩擦係数は膜構造や窒素含有率と相関を示さず0.2前後で,一部の皮膜は大気中でも超低摩擦現象が発現する可能性があることが明らかになった。以上の結果から,適切なN₂分圧および試料台電位で成膜することにより,CNx膜の構造および機械的特性の制御可能性が示唆された。

シソーラス用語： 反応性スパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *非晶質 ,  *炭素化合物 ,  *窒化物 ,  蒸着膜 ,  *窒素 ,  *分圧 ,  *摩擦 ,  DLC膜 ,  電位 ,  *硬度 ,  化学結合
準シソーラス用語： 窒化炭素

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (5件)： RF ,  反応性スパッタリング ,  膜形成 ,  摩擦特性 ,  スパッタガス