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J-GLOBAL ID：201602214388278746   整理番号：15A1301413

パルスレーザ蒸着によるグラフェン薄膜の合成とキャラクタリゼーション【Powered by NICT】

Synthesis and Characterization of Graphene Thin Films by Pulsed Laser Deposition

著者 (7件)： Wang Jin (School of Materials Sci. and Engineering,Southwest Univ. of Sci. and Technol., Mianyang) ,  Yu Jian (Res. Center of Laser Fusion,China Acad. of Engineering Physics, Mianyang) ,  Xiong Zhengwei (Lab. for Extreme Conditions Matter Properties,Southwest Univ. of Sci. and Technol., Mianyang) ,  Yin Hongbu (Res. Center of Laser Fusion,China Acad. of Engineering Physics, Mianyang) ,  Wang Xuemin (Res. Center of Laser Fusion,China Acad. of Engineering Physics, Mianyang) ,  Cao Linhong (School of Materials Sci. and Engineering,Southwest Univ. of Sci. and Technol., Mianyang) ,  Wu Weidong (Lab. for Extreme Conditions Matter Properties,Southwest Univ. of Sci. and Technol., Mianyang)
資料名： Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao  (Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao)
巻： 35  号： 8  ページ： 1023-1027  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2159A  ISSN： 1672-7126  CODEN： CKKSDV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 二-次元構造を有するグラフェンは,優れた特性,近年化学,物理学,材料科学および他の分野に関する研究焦点となってきた。本論文では,グラフェン薄膜は2.0×10~(-6)Paと/または2.0×10~(-1)Pa H_2でCu(111)基板上に炭素源として熱分解グラファイトを用いたパルスレーザ蒸着(PLD)により成長させた。微細構造と結晶度に及ぼす蒸着条件を含む基質に限定されないが温度,水素分圧とレーザパルス持続時間の影響を原子間力顕微鏡(A FM)と高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM),制限視野電子回折およびRaman分光法によって調べた。予備的な結果は,基板温度とH_2分圧は,グラフェン膜の結晶性に大きな影響を持つことを示した。具体的には,400~600°Cの温度範囲で,400°CとH_2の低圧で成長させた高品質グラフェン膜。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 結晶度 ,  *キャラクタリゼーション ,  基板温度 ,  分圧 ,  *蒸着 ,  *レーザ ,  グラファイト ,  制限視野回折 ,  基質 ,  パルス幅 ,  *薄膜 ,  Raman分光法
準シソーラス用語： 高品質 ,  温度範囲 ,  HRTEM , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスレーザ蒸着 ,  グラフェン ,  薄膜 ,  キャラクタリゼーション