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J-GLOBAL ID：201602214507713693   整理番号：16A0002705

渦water-wallアルゴンアークを用いたウエハ温度の制御

Control of Wafer Temperature Using a Vortex Water-Wall Argon Arc

著者 (5件)： GROVER Harpreet Singh (Univ. Toronto, ON, CAN) ,  DAWSON Francis P. (Univ. Toronto, ON, CAN) ,  CAMM Dave M. (Camm Consulting, BC, CAN) ,  CRESSAULT Yann (Univ. Paul Sabatier, Toulouse, FRA) ,  LIEBERER Markus (Mattson Technol., Inc., Dornstadt, DEU)
資料名： IEEE Transactions on Industry Applications  (IEEE Transactions on Industry Applications)
巻： 51  号： 6,Pt.1  ページ： 4802-4807  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： A0338B  ISSN： 0093-9994  CODEN： ITIACR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ミリ秒単位で精密な温度制御が必要な半導体ウエハ急速熱アニールにおいて,放射出力をミリ秒応答時間で制御できる技術は,渦water-wallアルゴンアークランプである。本論文では,プレパルス期間の間ウエハ温度を制御するために用いた全体の制御インフラストラクチャについて述べた。温度傾斜要求に応答してウエハ温度追跡を行うために,渦water-wallアルゴンアークにおいて一定スイッチング周波数可変デューティサイクル制御方式を用いた。底部の2つのランプを予熱に用いた。全体の制御系は,内部電流ループおよび外部温度ループから構成した。外部温度ループは,内部制御モデル(ICM)を用い,ウエハ温度測定の放射計のSNRが低すぎるときに,低いウエハ温度でウエハ温度を制御した。ウエハ閾値温度を越え,放射計のSNRが許容できるとき閉ループ温度フィードバックが発生した。

シソーラス用語： 渦 ,  アルゴン ,  アーク放電 ,  *ウエハ【IC】 ,  *RTA【熱処理】 ,  *アークランプ ,  温度制御 ,  モデル ,  放射計 ,  フィードバック制御
準シソーラス用語： 急速熱アニール ,  制御モデル ,  閉ループ制御

分類 (2件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 渦 ,  アルゴン ,  アーク ,  ウエハ