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J-GLOBAL ID：201602214842925417   整理番号：16A0017198

PADC膜中の核飛跡に沿ったCH基消失とOH基形成に関する収率

Yields on the formation of OH groups and the loss of CH groups along nuclear tracks in PADC films

著者 (10件)： KUSUMOTO Tamon (Graduate School of Maritime Sciences, Kobe Univ., 5-1-1 Fukaeminami-machi, Higashinada-ku, 658-0022 Kobe, JPN) ,  MORI Yutaka (Graduate School of Maritime Sciences, Kobe Univ., 5-1-1 Fukaeminami-machi, Higashinada-ku, 658-0022 Kobe, JPN) ,  KANASAKI Masato (Graduate School of Maritime Sciences, Kobe Univ., 5-1-1 Fukaeminami-machi, Higashinada-ku, 658-0022 Kobe, JPN) ,  UENO Takuya (Graduate School of Maritime Sciences, Kobe Univ., 5-1-1 Fukaeminami-machi, Higashinada-ku, 658-0022 Kobe, JPN) ,  KAMEDA Yuka (Graduate School of Maritime Sciences, Kobe Univ., 5-1-1 Fukaeminami-machi, Higashinada-ku, 658-0022 Kobe, JPN) ,  ODA Keiji (Graduate School of Maritime Sciences, Kobe Univ., 5-1-1 Fukaeminami-machi, Higashinada-ku, 658-0022 Kobe, JPN) ,  KODAIRA Satoshi (National Inst. of Radiological Sciences, 4-9-1 Anagawa, Inage-ku, 263-8555 Chiba, JPN) ,  KITAMURA Hisashi (National Inst. of Radiological Sciences, 4-9-1 Anagawa, Inage-ku, 263-8555 Chiba, JPN) ,  BARILLON Remi (Inst. Pluridisiplinaire Hubert Curien, 23 rue du Loess, 67037 Strasbourg Cedex 2, FRA) ,  YAMAUCHI Tomoya (Graduate School of Maritime Sciences, Kobe Univ., 5-1-1 Fukaeminami-machi, Higashinada-ku, 658-0022 Kobe, JPN)
資料名： Radiation Measurements  (Radiation Measurements)
巻： 83  ページ： 59-62  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： H0649A  ISSN： 1350-4487  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 空気中で重イオン,He,C,Ne,Ar,Fe,Xeを照射したポリアリルジグリコールカーボネート(PADC)膜中のイオン飛跡に沿って修飾された構造をFTIR分光法により調べ,10~12000keV/μmの阻止能を網羅した。各飛跡に沿ったOH基の形成量とCH基に対する損傷密度を推定し,エーテル結合および炭酸塩エステル結合に関する以前の結果と比較した。CH基は飛跡コアの中心領域で失われ,他の官能基とOH基が高分子ネットワークの新しい終点として創られた。PADC膜に吸収された水のOHに対する分子吸収係数として9.7×10³M^-1cm^-1を得た。この係数は高分子上のOH基に適用できると仮定されている。OH基の量はエーテル結合の損傷密度とほぼ等価であった。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *重イオン照射 ,  *高分子膜 ,  粒子飛跡 ,  FTIR分光法 ,  赤外吸収スペクトル ,  炭酸塩 ,  化学結合 ,  基 ,  阻止能 ,  *ヒドロキシ基
準シソーラス用語： *ヒドロキシル基 ,  CH基 ,  FTIRスペクトル ,  イオン飛跡 ,  エーテル結合 ,  エステル結合 ,  ポリアリルジグリコールカーボネート ,  核飛跡

分類 (1件)： 放射線物理一般  (BK16010L)

タイトルに関連する用語 (4件)： 核飛跡 ,  CH ,  OH基 ,  収率