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J-GLOBAL ID：201602215626981481   整理番号：16A0007962

直交干渉リソグラフィーにより作製した大面積で広帯域・高効率の近赤外直線偏光操作メタ表面

Large-area, broadband and high-efficiency near-infrared linear polarization manipulating metasurface fabricated by orthogonal interference lithography

著者 (4件)： ZHANG Zuojun (Key Lab. of Optoelectronic Technol. and System, Ministry of Education, Chongqing Univ., Chongqing 400030, CHN) ,  LUO Jun (Key Lab. of Optoelectronic Technol. and System, Ministry of Education, Chongqing Univ., Chongqing 400030, CHN) ,  SONG Maowen (Key Lab. of Optoelectronic Technol. and System, Ministry of Education, Chongqing Univ., Chongqing 400030, CHN) ,  YU Honglin (Key Lab. of Optoelectronic Technol. and System, Ministry of Education, Chongqing Univ., Chongqing 400030, CHN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 107  号： 24  ページ： 241904-241904-4  発行年： 2015年12月14日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 人工材料 ,  光学材料 ,  表面 ,  近赤外線 ,  *直線偏光 ,  操作 ,  変換素子 ,  光反射 ,  多層構造 ,  プレーナ構造 ,  光共振器 ,  *光学系 ,  広帯域 ,  効率 ,  プラズモン ,  *リソグラフィー ,  光干渉 ,  ナノメータ加工
準シソーラス用語： ナノファブリケーション ,  *光メタ表面 ,  高効率 ,  電磁メタマテリアル ,  偏光状態 ,  偏光変換素子 ,  変換効率

分類 (1件)： 偏光,複屈折,光学回転  (BD03040X)

タイトルに関連する用語 (8件)： 干渉リソグラフィー ,  作製 ,  大面積 ,  広帯域 ,  高効率 ,  近赤外 ,  直線偏光 ,  メタ表面