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J-GLOBAL ID：201602217733170707   整理番号：16A0042623

コロイダルセリア砥粒を用いた石英ガラス基板研磨~pH調整による高品位・高能率研磨~

著者 (3件)： 外山貴彬 (九大 大学院) ,  黒河周平 (九大 大学院) ,  林照剛 (九大 大学院)
資料名： 精密工学会九州支部地方講演会講演論文集
巻： 2015  ページ： 47-48  発行年： 2015年12月05日 
JST資料番号： L2317A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *石英ガラス ,  *調整 ,  砥粒 ,  *研磨 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  *表面粗さ
準シソーラス用語： *pH調整 ,  ガラス基板

分類 (1件)： 研削  (QC03000R)

タイトルに関連する用語 (6件)： 砥粒 ,  石英 ,  ガラス基板 ,  研磨 ,  高品位 ,  高能率